特長

1. 1. 微小エリア・高精度測定

   マイクロスポット光学系の採用により、40μm角の微細なエリアを高精度に測定します。

2. 2. ハイスループット

   新開発光学ヘッドを搭載し、従来比2倍のハイスループットを実現しました。

3. 3. 分光エリプソメータ搭載

   膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜厚だけでなく、膜質の管理を行うことが重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。

4. 4. 単波長エリプソメータ搭載可能（オプション）

   膜厚20nm以下の超薄膜を高精度で測定可能な単波長エリプソメータ（オプション）も搭載可能です。光源に長寿命タイプのレーザーダイオードを採用しており、大幅にランニングコストを削減します。