Products製品紹介

CW-2000

ウェーハ洗浄装置 / ウェットステーション

CW-2000

Wafer size 50mm ~ 200mm

フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置。

特長

  1. 1. オールインワンコンセプト

    薬液供給ユニットおよび冷却ユニットを本体内部に搭載。
    当社従来装置との比較で約45%の省スペース化を実現しました。

  2. 2. 多様な処理ウェーハに対応

    1台の装置で、50mmから200mmまで幅広いサイズに対応します。

  3. 3. 新乾燥ユニットをラインアップ

    従来のDIS(Drain & IPA Substitution)乾燥に加えて、IPAを使用しない環境に優しい温風乾燥方式(HBD: Hot Blow Drying)を新たにラインアップ。お客さまの使用条件に応じて選択が可能です。

  4. 4. フレキシブルな拡張性

    お客さまの生産性と導入スペースに応じて、処理槽数を4・6・8槽と拡張可能です。

  5. 5. 生産性アップ

    従来比1.5倍の毎時150枚の生産を実現。

  6. 6. RCA洗浄に対応

    半導体洗浄で従来から主流となっている、歩留まり向上に有効なRCA洗浄にも対応します。

All-in-One Concept

製品に関する、お問い合わせ・資料請求はこちら

お問い合わせフォーム