Products製品紹介
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ウェーハ洗浄装置 / ウェットステーション
CW-2000
Wafer size 50mm ~ 200mm
フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置。
特長
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1. オールインワンコンセプト
薬液供給ユニットおよび冷却ユニットを本体内部に搭載。
当社従来装置との比較で約45%の省スペース化を実現しました。 -
2. 多様な処理ウェーハに対応
1台の装置で、50mmから200mmまで幅広いサイズに対応します。
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3. 新乾燥ユニットをラインアップ
従来のDIS(Drain & IPA Substitution)乾燥に加えて、IPAを使用しない環境に優しい温風乾燥方式(HBD: Hot Blow Drying)を新たにラインアップ。お客さまの使用条件に応じて選択が可能です。
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4. フレキシブルな拡張性
お客さまの生産性と導入スペースに応じて、処理槽数を4・6・8槽と拡張可能です。
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5. 生産性アップ
従来比1.5倍の毎時150枚の生産を実現。
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6. RCA洗浄に対応
半導体洗浄で従来から主流となっている、歩留まり向上に有効なRCA洗浄にも対応します。

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